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构成专利侵权需满足哪些条件?

来源:炎雷益 2024-10-10

律师解析:判断构成专利侵权所需满足的四大要素包括:1.涉案的专利需属于在我国境内合法且有效的专利范围之内;2.侵权事实的确凿性。也就是说,侵权方实施了未经专利所有者授权许可的,针对专利进行牟取利益的不当行为;3.侵权行为所产生的实际损害及影响;4.行为主体主观上的故意或过失态度。法律依据:《民法典》第一千一百八十五条故意侵害他人知识产权,情节严重的,被侵权人有权请求相应的惩罚性赔偿。版权声明:本平台对图文内容模式享有独家版权,未经许可不得以任何形式复制、转载。 构成专利侵权需要满足哪些条件
构成专利侵权需要满足以下条件: 1. 存在有效的专利:侵权行为必须针对一项有效的专利。专利必须是合法授予的,并在有效期内。 2. 侵权行为:被告实施了与专利权利要求书所描述的技术特征相同或等同的技术方案。 3. 以生产经营为目的:侵权行为必须是为了商业目的或经济利益,而不是个人使用或实验目的。 4. 主观故意:被告在实施侵权行为时必须存在主观故意,即明知或应知其行为是侵权的。 5. 损害结果:侵权行为必须造成了损害结果,或者存在潜在的损害风险。 6. 证据充分:原告需要提供足够的证据来证明侵权行为的存在和构成要件的满足。照片作品版权申请湖北照片作品版权登记抖音电影直播免费授权设计图作品版权申请加急版权登记收费标准是什么

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